為半導體制造提供高精度、高潔凈度的流體測量與控制方案。產品包括超純水流量計、特種氣體MFC、精密計量泵、真空計等,確保晶圓清洗、CMP、蝕刻工藝的穩(wěn)定性和良品率。
獲取定制方案針對半導體制造中的關鍵挑戰(zhàn),我們提供專業(yè)的流體測量與控制解決方案
傳統(tǒng)流量計無法滿足超純水的高精度測量要求,導致晶圓清洗工藝不穩(wěn)定
高純度、腐蝕性特種氣體的精確計量和控制是半導體工藝的難點
化學機械拋光(CMP)和蝕刻工藝對藥液配比精度要求極高
部分半導體工藝需要在高溫高壓環(huán)境下運行,對設備穩(wěn)定性要求極高
采用特殊材料和設計,確保超純水測量精度達到±0.5%
耐腐蝕設計,適用于各種特種氣體,控制精度高達±1%
高精度計量泵確?;瘜W藥液配比精度,提高工藝一致性
特殊材質和結構設計,確保在極端工況下的長期穩(wěn)定運行
適用于半導體制造的產品與控制系統(tǒng)
我們的工程師將在24小時內聯(lián)系您,提供專業(yè)的產品選型建議和技術支持